今天给各位分享荷兰光(guāng)刻機(jī)多少钱一(yī)台的(de)知识，其中(zhōng)也会對(duì)荷兰光(guāng)刻機(jī)的(de)价格进行解释，如果能碰巧解决你現(xiàn)在(zài)面临的(de)问题，别忘了关注本站，現(xiàn)在(zài)开始吧！
顶级的(de)euv光(guāng)刻機(jī)费用极高,它的(de)市场却为何还供不应求?
〖壹〗、另一(yī)个原因是(shì)，EUV光(guāng)刻機(jī)的(de)生产涉及众多美国专利，因此每台光(guāng)刻機(jī)的(de)成(chéng)功出(chū)售都需要获得美国的(de)相关授权许可。 大家都知道，我国在(zài)高性能技术领域一(yī)直受到(dào)美国的(de)封锁。近来，国内还无法生产商用的(de)EUV光(guāng)刻機(jī)，對(duì)引进外国先进光(guāng)刻機(jī)的(de)需求迫切。
〖贰〗、高性能的(de)光(guāng)刻機(jī)在(zài)运输、安装调试方面会花许多时间，尽管市场供不应求，但是(shì)为了保证生产效果，运输安装、调试运行所花费的(de)时间、经济成(chéng)本大，不能做到(dào)效果手機(jī)電(diàn)脑等(děng)消费品那样大量生产。另一(yī)个原因是(shì)EUV光(guāng)刻機(jī)的(de)生产用到(dào)了许多美国的(de)专利，因此一(yī)台光(guāng)刻機(jī)能够成(chéng)功出(chū)售还需要获得美国的(de)授权许可。
〖叁〗、芯(xīn)片(piàn)的(de)制造(zào)可不是(shì)想象中(zhōng)那么简单的(de)。芯(xīn)片(piàn)的(de)计量单位都是(shì)以纳米为单位的(de)。也就是(shì)说，芯(xīn)片(piàn)的(de)制造(zào)對(duì)于精度的(de)要求太高了，衹(zhǐ)有光(guāng)刻機(jī)能够做到(dào)。近来来看，衹(zhǐ)有荷兰高科技企业ASML可以生产出(chū)EUV光(guāng)刻機(jī)，所以物以稀为贵，这项技术的(de)费用就肯定会高的(de)离谱。
〖肆〗、EUV光(guāng)刻機(jī)的(de)重要性： EUV光(guāng)刻機(jī)是(shì)近来全(quán)球最先进的(de)芯(xīn)片(piàn)制造(zào)设备之一(yī)，對(duì)于提升芯(xīn)片(piàn)的(de)集成(chéng)度和性能至关重要。 對(duì)于追求高性能、高集成(chéng)度芯(xīn)片(piàn)的(de)中(zhōng)国芯(xīn)片(piàn)产业来说，EUV光(guāng)刻機(jī)具有重要的(de)战略意義(yì)。 中(zhōng)国芯(xīn)片(piàn)产业的(de)发展趋势： 中(zhōng)国正在(zài)大力推动芯(xīn)片(piàn)产业的(de)自主发展，计划在(zài)未来几年内实現(xiàn)重大技术突破。
为什么全(quán)世界衹(zhǐ)有荷兰能够制造(zào)顶级的(de)光(guāng)刻機(jī)?
〖壹〗、荷兰能够制造(zào)顶级光(guāng)刻機(jī)的(de)原因之一(yī)在(zài)于ASML的(de)背景。ASML是(shì)从飞利浦電(diàn)子这家知名電(diàn)子制造(zào)商中(zhōng)分离出(chū)来的(de)，继承了飞利浦的(de)资源(yuán)和技术基础，同时获得了人员的(de)支持和资金的(de)资助。 另一(yī)个原因是(shì)ASML的(de)供应链策略。ASML的(de)光(guāng)刻機(jī)零件超过90%是(shì)向外采购的(de)，这与它的(de)竞争對(duì)手尼康和佳能不同。
〖贰〗、荷兰能够制造(zào)顶级光(guāng)刻機(jī)的(de)一(yī)个原因是(shì)ASML的(de)背景。ASML是(shì)从著名的(de)電(diàn)子制造(zào)商飞利浦独立出(chū)来的(de)，得到(dào)了飞利浦的(de)人员和资金支持。 ASML的(de)另一(yī)个优势是(shì)其供应链策略。超过90%的(de)零件是(shì)从外部采购的(de)，这与竞争對(duì)手尼康和佳能不同。
〖叁〗、ASML在(zài)光(guāng)刻機(jī)领域是(shì)无可争议的(de)世界霸主。光(guāng)刻機(jī)是(shì)芯(xīn)片(piàn)生产中(zhōng)必不可少的(de)设备，ASML是(shì)一(yī)家荷兰公司，专门生产光(guāng)刻機(jī)。光(guāng)刻機(jī)是(shì)生产芯(xīn)片(piàn)的(de)最为关键的(de)设备之一(yī)。 ASML的(de)光(guāng)刻機(jī)已经能够制造(zào)7nm以下制程的(de)芯(xīn)片(piàn)，单台光(guāng)刻機(jī)的(de)售价已经超过了一(yī)亿美元(yuán)，而且还不是(shì)現(xiàn)货。
〖肆〗、原因一(yī)：荷兰的(de)ASML并不是(shì)一(yī)家白手起家的(de)公司，而是(shì)从著名電(diàn)子制造(zào)商飞利浦，独立出(chū)来的(de)一(yī)个公 司，背后肯定有相关的(de)人员，经济上的(de)资助。原因二：ASML的(de)光(guāng)刻機(jī)中(zhōng)超过90%的(de)零件都是(shì)向外采购的(de)，这与他原来的(de)對(duì)手，尼康和佳能是(shì)完全(quán)不同的(de)。
〖伍〗、EVU光(guāng)刻機(jī)的(de)研发难度极高，以至于近来衹(zhǐ)有荷兰ASML公司能够成(chéng)功制造(zào)，主要原因如下：技术高度复杂与精细：精密器件的(de)集成(chéng)：光(guāng)刻機(jī)由数十种精密器件组成(chéng)，包括ASML自家的(de)光(guāng)刻機(jī)、刻蚀機(jī)等(děng)，以及蔡司的(de)高精度镜头等(děng)。这些器件的(de)集成(chéng)和协同工作需要极高的(de)技术实力。
什么是(shì)光(guāng)刻機(jī)?一(yī)台光(guāng)刻機(jī)可以制造(zào)多少芯(xīn)片(piàn)?
〖壹〗、一(yī)台光(guāng)刻機(jī)的(de)产量有限，它能够制造(zào)的(de)芯(xīn)片(piàn)数量相對(duì)较少。光(guāng)刻機(jī)的(de)主要功能是(shì)在(zài)硅片(piàn)上精确地刻画微小的(de)電(diàn)路圖(tú)案。在(zài)智能手機(jī)和其他電(diàn)子设备的(de)制造(zào)过程中(zhōng)，光(guāng)刻機(jī)是(shì)生产芯(xīn)片(piàn)的(de)关键设备之一(yī)。
〖贰〗、光(guāng)刻機(jī)是(shì)生产手機(jī)芯(xīn)片(piàn)的(de)重要機(jī)器之一(yī)。近来，衹(zhǐ)有少数国家可以生产光(guāng)刻機(jī)，衹(zhǐ)有荷兰ASML公司可以生产高精度光(guāng)刻機(jī)，而且荷兰ASML公司垄斷(duàn)了全(quán)球高精度光(guāng)刻機(jī)80%以上的(de)市场份额。
〖叁〗、光(guāng)刻機(jī)能制造(zào)的(de)芯(xīn)片(piàn)数量不固定，受到(dào)多种因素影响。芯(xīn)片(piàn)尺寸：芯(xīn)片(piàn)尺寸大小不同，在(zài)同一(yī)硅片(piàn)上可制造(zào)的(de)芯(xīn)片(piàn)数量有差(chà)异。例如，较大尺寸的(de)芯(xīn)片(piàn)，如用于服务器的(de)高端芯(xīn)片(piàn)，一(yī)片(piàn)硅片(piàn)上制造(zào)的(de)数量就少；而较小尺寸的(de)消费级芯(xīn)片(piàn)，如手機(jī)芯(xīn)片(piàn)，相同硅片(piàn)面积上制造(zào)的(de)数量会更多。
ASML第三季度售出(chū)的(de)EUV光(guāng)刻機(jī)平均每台费用约多少?
ASML在(zài)三季度的(de)财报中(zhōng)显示，销售收入达到(dào)40亿欧元(yuán)，净利润11亿欧元(yuán)，显示出(chū)强劲的(de)增长势头。四季度预期收入在(zài)36至38亿欧元(yuán)，全(quán)年营收有望突破133亿欧元(yuán)。光(guāng)刻機(jī)销售方面，ASML在(zài)该季度售出(chū)60台，总收入31亿欧元(yuán)，其中(zhōng)EUV光(guāng)刻機(jī)贡献了66%的(de)收入，每台平均售价约为46亿欧元(yuán)（约11亿元(yuán)）。
ASML下一(yī)代EUV光(guāng)刻機(jī)启动，单价约为26亿元(yuán)人民币，核心部件已到(dào)货。以下是(shì)关于此事件的(de)关键信息：费用信息：ASML下一(yī)代High-NA EUV光(guāng)刻设备的(de)单价估计为5000亿韩元(yuán)，折合人民币约为285亿元(yuán)至26亿元(yuán)。
在(zài)生产芯(xīn)片(piàn)的(de)过程当中(zhōng)，光(guāng)刻機(jī)起到(dào)至关重要的(de)作用，光(guāng)刻機(jī)的(de)工艺直接决定了芯(xīn)片(piàn)的(de)能。随着半导体工艺进入7nm以内，EUV光(guāng)刻機(jī)是(shì)必不可少的(de)关键设备，全(quán)球衹(zhǐ)有ASML公司能生产，現(xiàn)在(zài)NA 0.33孔径的(de)EUV光(guāng)刻機(jī)售价高达5亿美元(yuán)，约合10亿一(yī)台，而且下一(yī)代会更贵。
ASML最近证实，High NA EUV光(guāng)刻機(jī)的(de)功耗将额外增加0.5MW，加上現(xiàn)有的(de)5MW，下一(yī)代光(guāng)刻機(jī)的(de)总功耗将达到(dào)2MW，即200万瓦。如果光(guāng)刻機(jī)全(quán)天候运转，其每天的(de)電(diàn)力消耗将达到(dào)8万度，这對(duì)于芯(xīn)片(piàn)制造(zào)企业来说是(shì)一(yī)笔相当高的(de)成(chéng)本，绝對(duì)称得上是(shì)“電(diàn)老虎”。
微電(diàn)路）需要用機(jī)器来雕刻。关于售价，ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink10月14日介绍公司三季度业绩情况时间接给出(chū)了答案。他表示，“我们第三季度的(de)新增订单达到(dào)29亿欧元(yuán)，其中(zhōng)95亿欧元(yuán)来自4台EUV设备。”简单换算一(yī)下，一(yī)台EUV光(guāng)刻機(jī)的(de)售价为48亿欧元(yuán)，折合人民币高达174亿元(yuán)。
